Etüül 2-okso-2-(tiofeen-2-üül)atsetaat CAS 4075-58-5

Peegeldades nende kõrget stabiilsust, tekivad tiofeenid paljudes reaktsioonides, mis hõlmavad väävliallikaid ja süsivesinikke, eriti küllastumata. Meyeri esimene tiofeeni süntees, millest teatati samal aastal, kui ta oma avastuse tegi, hõlmab atsetüleeni ja elementaarset väävlit. Tiofeenid valmistatakse klassikaliselt 1,4-diketoonide, diestrite või dikarboksülaatide reageerimisel sulfideerivate reagentidega, nagu P4S10, näiteks Paal-Knorri tiofeeni sünteesis. Spetsiaalseid tiofeene saab sünteesida sarnaselt, kasutades sulfideeriva ainena Lawessoni reaktiivi või Gewaldi reaktsiooni, mis hõlmab kahe estri kondenseerumist elementaarse väävli juuresolekul. Teine meetod on Volhard-Erdmanni tsüklistamine.

Tiofeeni toodetakse kogu maailmas tagasihoidlikus mahus, umbes 2000 tonni aastas. Tootmine hõlmab väävliallika, tavaliselt süsinikdisulfiidi ja C-4 allika, tavaliselt butanooli, aurufaasi reaktsiooni. Need reaktiivid viiakse kontakti oksiidkatalüsaatoriga 500–550 kraadi juures.

Etüültiofeen-2-glüoksülaati (4075-58-5) võib nimetada ka etüül-2-tiofeneglüoksülaadiks; etüül-alfa-oksotiofeen-2-atsetaat; tiofeen-2-glüoksüülhappe etüülester ; Etüül2-okso-2-(2-tienüül)atsetaat .See on ohtlik, seetõttu tuleks teada esmaabimeetmeid ja muud. Näiteks: Nahale sattumisel: esmalt loputage nahka. koheselt rohke veega vähemalt 15 minutit, eemaldades saastunud riided. Teiseks hankige meditsiinilist abi kingadest. Või silma sattumisel: loputage silmi rohke veega vähemalt 15 minutit, tõstes aeg-ajalt ülemisi ja alumisi silmalauge. Seejärel pöörduge kiiresti arsti poole. Sissehingamisel: eemaldage kokkupuutest ja viige viivitamatult värske õhu kätte. Tehke samal ajal kunstlikku hingamist. ei hinga. Kui hingamine on raske, andke hapnikku. Ja niipea, kui saada arstiabi. Seejärel peate toote alla neelama: Loputage suud veega ja pöörduge viivitamatult arsti poole. Märkused arstile: Ravi toetavalt ja sümptomaatiliselt.

Lisaks võib etüültiofeen-2-glüoksülaat (4075-58-5) olla stabiilne normaalsetes temperatuuri- ja rõhutingimustes. See ei ühildu tugevate oksüdeerivate ainete, süüteallikate, tugevate hapete, tugevate alustega ja seda ei tohi võtke see koos kokkusobimatute materjalidega. Ja vältige ka selle lagunemist ohtlikeks lagunemissaadusteks: ärritavad ja mürgised aurud ja gaasid, süsinikdioksiid, süsinikmonooksiid.

Fosfoonhappe derivaate on kasutatud energia salvestamisel ja katalüüsil. Neid on kasutatud ka ioonivahetuses, enantioselektiivsetes interkalatsioonireaktsioonides ja elektroaktiivsete omadustega õhukeste kilede isekoostamisel. Lisaks on välja töötatud ka fosfoonhappe derivaatidel põhinevad polüelektrolüütmembraanid, millel on märkimisväärne vastupidavus temperatuurile ja korrosioonile ning vabade radikaalide rünnakutele.

Fosfoonhappe derivaadid on ka fundamentaalsemast vaatenurgast huvitavad ühendid. Tegelikult põhjustab nende hüdroksüülrühmade olemuslik konformatsiooniline paindlikkus ja ka nende võime osaleda intra- ja/või intermolekulaarsetes H-sideme tüüpi interaktsioonides nii aktseptorite kui doonoritena tavaliselt huvitavaid molekulaarseid ja supramolekulaarseid arhitektuure. Neid tugevdatakse juhtudel, kui fosfoonhappe fragmendiga seotud asendajal on ka uurimist keerulised struktuursed omadused (nt konformatsiooniline paindlikkus, π-elektronide delokalisatsioon, H-sideme moodustamise võime jne).

Kirjeldatud on uue fosfoonhappe (2-okso-2-(tiofeen-2-üül)etüül)fosfoonhappe (OTEPA; skeem 1) süntees koos selle struktuurse ja spektroskoopilise iseloomustusega molekulaarsel tasemel ja kristallilises faasis. OTEPA on lihtne fosfoonhappe derivaat, mis vastab struktuursetele omadustele suure hulga konformeeride kuvamiseks (sellel on viis erinevat sisemist pöörlemisastet, mis võivad põhjustada konformatsioonilisi isomeere) ja erinevat tüüpi molekulidesiseseid/vahelisi H-tüüpi interaktsioone [sellel on viis elektronegatiivsed keskused, pluss delokaliseeritud tsükli π-süsteem, mis võib toimida H-sideme aktseptoritena (elektronide doonorid), ja kaks OH-rühma, mis võivad töötada H-sideme doonorina].

Selle artikli põhieesmärk on heita valgust ühendi eraldatud molekulis ja/või kristallifaasis esinevate peamiste intra- ja molekulidevaheliste interaktsioonide erinevale tähtsusele. Need andmed on olulised olemasolevate teadmiste parandamiseks fosfoonhappe fragmendi struktuuriomaduste ja omaduste kohta. OTEPA molekuli konformatsiooniruumi uuriti teoreetiliselt ning kõige stabiilsemaid konformeere iseloomustati struktuurselt ja spektroskoopiliselt. Konformeeride suhtelist stabiilsust selgitatakse ühendi struktuuriliste tunnuste põhjal, kusjuures molekulisisene H-side, mis on loodud fosfoonhappe fragmendi ühe OH-rühma ja asendaja karbonüülhapniku aatomi vahel, on peamine molekulisisene interaktsioon, mis vastutab ühendi madalaima energiaga konformeeride stabiliseerimine.

Väga huvitaval kombel leiti, et O⋯S-kontakt karbonüülhapniku aatomi ja tiofeenitsükli väävliaatomi vahel (mis sarnaneb varem teistes molekulaarsüsteemides leitud N⋯S-tüüpi kontaktiga) on samuti oluline molekulisisese interaktsiooni määramisel. OTEPA kahe madalaima energiaga konformeeri stabiilsus. Teisest küljest asendub isoleeritud OTEPA molekuli madalaima energiaga konformeere stabiliseeriv molekulisisene H-side kristallis naabermolekulidega loodud molekulidevaheliste H-sidemetega, nii et valitud konformatsioonid kristallifaasis on kõrgema energiaga struktuurid. olles isoleeritud (energiaga, mis on kõrgem kui kõige stabiilsemal konformeeril rohkem kui 13 kJ mol−1). OTEPA on siis huvitav näide ühendist, mis näitab kristalliseerumisel konformatsioonilist valikut, mis nõuab märkimisväärset struktuurilist ümberkorraldamist.